Оптимізація вмісту кремнію в FeSiMg лігатурах для сфероїдизуючої обробки розплавів чавуну

Анотація

Досліджено покращення структури тонкостінних високоміцних чавунів з товщиною стінок 2-3 мм та виливків з перепадом товщини стінок від 2 до 10-12 мм шляхом модифікування лігатурою ФСМг7. Обробка розплаву FeSiMg лігатурою оптимізованого вмісту кремнію забезпечує високий рівень графітизації структури тонкостінних виливків. В стінці товщиною 2,0 мм кількість включень кулястого графіту досягла 1680 шт/мм², а у 3,0 мм і 12,0 мм стінках – 1180 і 780 шт/мм² відповідно.